详细摘要： 型号：KTF-3.5-12用途：真空或气氛保护状态下烧结，CVD薄膜实验等规格：炉管尺寸高纯石英管Φ50*1000，Φ60*1000，Φ...

详细摘要： 型号：KTF-4-15用途：1500℃以下真空或气氛下烧结、退火以及CVD实验镀膜等规格：炉管尺寸高纯刚玉管Φ50*1000，Φ60*1000，...

详细摘要： 型号：QTP1100S用途：用在需要极速升降温的样品，实现每秒几十度的升温规格：610x400x410（长*宽*高）特点：20℃/s升温速率，功率小，体积小

详细摘要： 型号：PE1260S用途：小样品的等离子化学气相沉积，石墨烯沉积，半导体镀膜等规格：炉管尺寸60*1150 mm特点：触摸屏集中一键控制，实验证明此结构沉积速度...

详细摘要： 型号：KTF-4-17用途：1600℃以下真空或气氛烧结与退火，CVD实验等规格：多种规格，多种型号特点：多用途，通用性很强

详细摘要： 型号：KTF-1.5-15用途：1500℃以下真空或气氛条件下材料的烧结与退火规格：炉管尺寸高纯刚玉管Φ50*700mm特点：体积小，功率小，经济实惠

详细摘要： 型号：PE1260B-Y用途：用作提高样品等离子体化学气相沉积效果的方向规格：特点：在常规PECVD系统基础上增加了气体预热功能，使得沉积效果更好。

详细摘要： 型号：KTF-4-17-2用途：主要用在了LED荧光粉的生产行业，也可用在科研实验室加长温区用。规格：炉管尺寸高纯刚玉管Φ50*1200，Φ60...

详细摘要： 型号：KTF-1.5-15规格：炉管材质高纯刚玉，炉管直径50mm，炉管长度700mm特点：炉膛可开启，用于降温时低温快速降温

详细摘要： 型号：TKTF-7-12用途：某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度，比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。规格：炉管直径80mm，炉管长度140...

详细摘要： 型号：KTF-15-17用途：批量处理不同温度下的单一样品热处理测试规格：炉管材质高纯刚玉，炉管直径80mm（内径70mm），炉管长度1400mm特点：多温区

详细摘要： 型号：KTF-5-12用途：某些热处理实验有时需要一个或多个温度梯度，比如CVD等镀膜试验。如此就会用到多温区的管式炉。规格：炉管尺寸Φ50*1000，...

详细摘要： 型号：KTF15-B用途：多温区高温管式炉由于温区较长，可以满足生产需要，此设备主要用在了LED荧光粉的生产行业，当然也可用在科研实验室。规格：1500℃特点：...

详细摘要： 型号：KTF12-M用途：物理/化学气象沉积（CVD/PVD）实验以及真空/气氛保护烧结、纳米材料制备等规格：炉管尺寸高纯石英管Φ50*600mm特点：...

详细摘要： 型号：KTF-12-12用途：此设备是专门为大工件或大批量热处理生产而研发制造的。规格：炉管尺寸Φ152*1650mm特点：152mm超大管径，1100...

详细摘要： KTF12-L用途：需要吊烧的样品，或者燃料电池正反面通不同气氛进行测试规格：炉管直径25mm，炉管长度单口石英管350mm，对接刚玉管各300mm特点：体积小...

详细摘要： 主要特点：1700C管式高温炉以优质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制。主要应用：适用于各大高校、科研院所、工矿企业做...

详细摘要： 型号：QJ-RTP1000JD用途：利用近空间升华法制备CdTe薄膜和CdS多晶薄膜规格：炉管规格Φ150*700mm

详细摘要： 型号：QJ-RTP1000J用途：利用近空间升华法制备CdTe薄膜和CdS多晶薄膜规格：长920×深500×高560特点：体积小巧，操作方便真空:极限真空度≤1...

详细摘要： 型号：QJ-S-1200用途：利用圆柱形炉膛的较高尺寸，可以竖放多根石英封管晶体生长规格：炉膛空间φ150*200mm特点：圆柱形炉膛，高度可以满足石英管，空间...